一場(chǎng)缺芯風(fēng)波讓全球各國(guó)意識(shí)到掌握芯片產(chǎn)能的重要性，以前對(duì)半導(dǎo)體制造業(yè)沒(méi)有太大的重視，而這幾年美國(guó)，日本等國(guó)家相繼加快芯片制造業(yè)的發(fā)展，重中之重就是建設(shè)芯片工廠。中國(guó)近年來(lái)在基礎(chǔ)芯片上的發(fā)展速度極快，基本上已能夠達(dá)到自給自足的標(biāo)準(zhǔn)。同時(shí)，據(jù)數(shù)據(jù)顯示，中國(guó)預(yù)計(jì)在2020年至2024年期間建造31家大型芯片制造工廠，遠(yuǎn)超過(guò)同期美國(guó)的12家。

　　芯片技術(shù)是為了探索新興領(lǐng)域和未知世界，為了給世界各國(guó)民眾帶來(lái)更舒適、更便捷的生活。一顆芯片在制造過(guò)程中，需要通過(guò)光刻機(jī)完成光刻作業(yè)，在涂抹光刻膠的晶圓上，以類(lèi)似照相機(jī)曝光的原理，把芯片線(xiàn)路圖進(jìn)行復(fù)刻。其實(shí)，在芯片生產(chǎn)中除了以上提到的關(guān)鍵設(shè)備，還有重要的一個(gè)設(shè)備，就是超純水設(shè)備。光刻機(jī)在芯片制造中功不可沒(méi)，但是超純水設(shè)備也是芯片生產(chǎn)背后的大功臣。

　　為什么超純水設(shè)備在芯片生產(chǎn)中如此重要?

　　當(dāng)半導(dǎo)體廠家生產(chǎn)和清洗半導(dǎo)體、芯片、電子產(chǎn)品的時(shí)候，都需要使用到電阻率為18兆歐以上的超純水，這樣的超純水幾乎不導(dǎo)電，不會(huì)影響電子產(chǎn)品的性能，同時(shí)水中幾乎不含金屬離子，不會(huì)對(duì)復(fù)雜芯片表面造成劃痕或者不可逆的影響。為此超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子半導(dǎo)體企業(yè)的基礎(chǔ)配置設(shè)施。

　　可以說(shuō)，芯片行業(yè)用水的合格與否是產(chǎn)品能否以質(zhì)量取勝的關(guān)鍵，芯片超純水設(shè)備可以為芯片行業(yè)提供高質(zhì)量的超純水支持。

　　萊特萊德超純水設(shè)備結(jié)合膜分離技術(shù)，采用反滲透、EDI裝置結(jié)合混床模塊化設(shè)計(jì)工藝來(lái)制備超純水，其出水電阻率可達(dá)18 MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求，具有環(huán)保、經(jīng)濟(jì)、發(fā)展?jié)摿薮蟮戎T多優(yōu)勢(shì)，為芯片提供了有效的產(chǎn)品質(zhì)量保證。