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超純水設備可生產出芯片生產過程中的清洗用水超純水，保證了芯片的良品率。采用雙反滲透、EDI、拋光混合床相結合的制水工藝，具有水利用率高、運行可靠、經濟合理等特點。...

萊特萊德超純水設備生產的超純水的電阻率可達到18MΩ*cm(25℃)，完全符合集成電路清洗用水要求。...

萊特萊德超純水設備結構緊湊、管理分布合理、簡單，是一臺獨立的一體化智能系統。在芯片生產中，生產出的超純水可保證芯片良品率，是優質的選擇。...

對比傳統超純水生產工藝，現如今應用的超純水設備多是采用膜技術，再應用反滲透+EDI系統+拋光混床相結合的工藝來制取超純水，具有運行成本低，運行可靠的優點，出水水質符合國家電子級超純水標準GBT11446....

超純水設備的應用，解決了傳統超純水生產過程中能耗大、操作繁瑣、成本高、產品純度低和產品質量不穩定的問題，可以實現連續化大規模生產，工藝流程簡單、配置合理有效、處理效率高，且具有經濟環保的優...

超純水設備采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度。...