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萊特萊德超純水設備采用兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝，處理后的水質可達到18MΩ.CM以上，符合半導體用水標準。...
超純水設備主要采用預處理、反滲透技術、EDI模塊以及后級處理等方法，幾乎可去除水中的導電介質，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度，從而達到國家規定標準。...
萊特萊德生產的EDI超純水設備，主要采用的是兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝，可以確保處理后的超純水水質電阻率達到18.2MΩ.cm。...
在高頻的運行過程中，超純水設備也會出現一些“插曲”，而在這些插曲中維護清洗問題尤為重要。...
萊特萊德生產的超純水處理設備，水質電阻率達到了18 MΩ*cm(25℃)，完全符合芯片清洗用水要求。...
超純水是一般工藝很難達到的程度，采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18.2MΩ*cm...
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