超純水在各個行業中的應用越來越廣泛，以芯片行業為例，芯片生產需要用到大量的超純水，超純水設備能夠連續穩定地制備高質量的超純水，可以提高芯片的良品率。換句話而言就是幾乎去除了除氧和氫以外所有原子，滿足芯片生產要求。

　　隨著技術的不斷進步，超純水的生產制造工藝也在不斷變化著。在這個變化中，一個關鍵詞逐步在人們的腦海中深入——節能減排。為響應國家對環境保護的政策，EDI超純水工藝正邁入降低化學藥品使用率的道路，并在此基礎上提升水的利用率。

　　超純水是一般工藝很難達到的程度，采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率可達18.2MΩ*cm。

　　萊特萊德超純水設備能有效去除水中雜質，保證設備出水水質。采用雙反+EDI+拋光混床組合工藝。反滲透系統利用反滲透原理，主要去除水中的溶解鹽、有機物、膠體和大分子。降低水質中的離子含量。EDI不需要酸堿再生。這是一種新的脫鹽方法，EDI不需要再生回收的化學品，運行成本低，EDI系統自動化程度高，連續運行，出水水質好且穩定。

　　展望未來，反滲透技術和EDI超純水設備不斷被我們所接受，越來越多的行業開始普及。EDI使用標準的組件，在設計方案時根據水質要求的不同可以進行不同的規格組合，實現了多種水質的制取。